Szampon do włosów odbudowujący Radical Med FARMONA 300 ml

RADICAL Med Szampon odbudowujący charakteryzuje się wyjątkową formułą. Delikatnie oczyszcza i myje (nie zawiera drażniących SLES, SLS). Przyczynia się do odbudowy warstwy ochronnej włosa, co sprzyja wzmocnieniu jego odporności na uszkodzenia. Produkt odpowiada za zdecydowane wygładzenie włókien i stymuluję odnowę struktury włosa na całej jego długości. Działa nawilżająco na skórę głowy i ułatwia układanie włosów. Przeciwdziała ich rozdwajaniu oraz sprawia, że odzyskują naturalny blask. RADICAL Med Szampon odbudowujący uelastycznia i zwiększa wytrzymałość włosów w 93%. Swoje działanie zawdzięcza zawartości biokompleksu odżywczo-regenerującego PeptideQL i Keratrix.

Działanie

• Szampon intensywnie wygładza i przyśpiesza naprawę struktury włosa na całej jego długości.

• Nawilża skórę głowy.

• Sprawia, że włosy stają się bardziej podatne na układanie.

• Zapobiega ich rozdwajaniu.

• Nadaje im intensywny połysk.

Wskazania: Szampon jest przeznaczony do częstego stosowania. Szampon przeznaczony jest do mycia i pielęgnacji włosów suchych, zniszczonych, bardzo łamliwych i osłabionych zabiegami mechanicznymi i termicznymi oraz polecany jest dla osób po chemioterapii.

Stosowanie: na mokre włosy nanieść niewielką ilość szamponu i delikatnie masować skórę głowy. Pozostawić na 3-4 minuty, następnie dokładnie spłukać wodą. W razie konieczności czynność powtórzyć.

Składniki
Aqua (Water), Sodium Lauroyl Sarcosinate, Cocamidopropyl Betaine, Sodium Cocoamphoacetate, PEG-18 Glyceryl Oleate /  Cocoate, Polyquaternium-7, Lactic Acid, Coco Glucoside, Glyceryl Oleate, Lauryldimonium Hydroxypropyl Hydrolyzed Wheat Protein, Lauryldimonium Hydroxypropyl Hydrolyzed Wheat Starch, Glycerin, Hydrolyzed Ceratonia Siliqua (Carob) Seed Extract, Zea Mays Starch, Guar Hydroxypropyltrimonium Chloride, Panthenol, Propylene Glycol, Panax Ginseng Root Extract, Potassium Sorbate, Sodium Benzoate, Styrene / Acrylates Copolymer, Hydroxyethylcellulose, Disodium EDTA, Parfum, Hexyl Cinaamal, Butylphenyl Methylpropional

Nie zawiera soli (sodium chloride) i siarczanów: SLES, SLS